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Micro e nanotecnologia/Microtecnologia/Film sottili/Evaporazione print that page

La tecnica di deposizione fisica da fase vapore (detta Physical Vapor Deposition ) di film sottili mediante evaporazione termica è una dei processi più antichi di deposizione. Il materiale viene riscaldato sotto vuoto e o sublima o evapora . Da semplici considerazioni termodinamiche segue

wikibooks.org | 2015/7/9 16:18:42

Micro e nanotecnologia/Microtecnologia/Film sottili/Film metallici print that page

CircuitoRC

Alcuni metalli comunemente usati nei processi di fabbricazione per CMOS e altri dispositivi elettronici: Tungsteno (W) : diminuisce la resistività delle linee di gate (word line) Nitruro di Tungteno (WN): evita che il W deposto contamini i dielettrici sottostanti. Titanio (Ti): favorisce

Micro e nanotecnologia/Microtecnologia/Film sottili/Chemical Vapor Deposition (CVD) print that page

Fase_I_del_processo_CVD

su di esso; spesso si producono altri composti che verranno estratti dalla camera di reazione. I film prodotti sono depositati in maniera conforme, quindi la tecnica è particolarmente utile quando si vogliono isolare mediante dielettrici strati superfici metalliche su strati differenti con

Micro e nanotecnologia/Microtecnologia/Introduzione alla microtecnologia/Concetti di base print that page

Gli obiettivi della micro (e nano) fabbricazione sono quelli di miniaturizzare le dimensioni di circuiti e dispositivi elettronici, compattare le varie funzioni e realizzare in modo semplice e poco costoso molte repliche identiche. Gli ingredienti a disposizione sono: per i materiali, si

wikibooks.org | 2015/7/9 16:19:04

Micro e nanotecnologia/Microtecnologia/Esempi/Giunzioni Josephson print that page

esposta dell’elettrodo superiore d) Senza rimuovere la maschera di resist, si deposita per evaporazione uno strato di ossido di Silicio; la giunzione risulta così isolata con un processo self-allineato (cioè non si devono esguire allineamenti specifici, l’allineamento è ottenuto automaticamente

wikibooks.org | 2017/6/7 6:02:48

Micro e nanotecnologia/Microtecnologia/Film sottili print that page

Si definiscono Film sottili strati di materiali spessi tra frazioni di nanometri (monostrati) a pochi micron di spessore. Tra le applicazioni principali da un punto di vista tecnologico vi sono i Dispositivi elettronici e la ricopertura di sistemi ottici, anche se lo studio e l'uso dei

wikibooks.org | 2015/7/9 16:18:37

Micro e nanotecnologia/Microtecnologia/Film sottili/Sputtering print that page

Magnetrongun

obliquo della superficie. La deposizione mediante sputtering è una tecnica di deposizione fisica di film sottili (nel testo si useranno degli inglesismi quali film sputterati o sputterare non esistendo parole italiane che ne siano una fedele traduzione). La tecnica consiste nel rimuovere

Micro e nanotecnologia/Microtecnologia/Film sottili/Deposizione con cannone elettronico print that page

dissipano così la loro energia cinetica nel materiale e ne provocano il riscaldamento e la successiva evaporazione . Il dissipatore di calore di rame è attraversato al suo interno da un flusso di acqua. In genere vi sono più crogioli che permettono di evaporare in sequenza più materiali

wikibooks.org | 2018/3/17 11:38:17

Micro e nanotecnologia/Microtecnologia/Film sottili/Molecular Beam Epitaxy (MBE) print that page

di estrema purezza e perfetta qualità cristallina, indispensabili per applicazioni avanzate in micro e optoelettronica. L'impiego di tale metodologia dedicata al silicio è particolarmente competitiva per: la realizzazione di strati di silicio drogato (cioè contenente impurezze volute

wikibooks.org | 2015/7/9 16:18:45

Micro e nanotecnologia/Microtecnologia/Film sottili/Deposizione di film dielettrici print that page

Forno_a_pareti_riscaldate

I processi di deposizione di film dielettrici più comuni sono i seguenti: deposizione di biossido di silicio deposizione di nitruro di silicio deposizione di polisilicio amorfo o cristallino I processi di deposizione di film sottili vengono effettuati a Diffusione in apparati molto