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Risultati 1 - 5 su circa 5 per  Wikipedia / Micro e nanotecnologia/Microtecnologia/Film sottili/Molecular Beam Epitaxy (MBE) / Wikipedia    (10867 articoli)

Micro e nanotecnologia/Microtecnologia/Film sottili/Molecular Beam Epitaxy (MBE) print that page

L' epitassia da fasci molecolari MBE dall'inglese Molecular Beam Epitaxy ) è un processo epitassiale che comporta la reazione di uno o più fasci di atomi o molecole, che hanno una certa energia, con una superficie cristallina in condizioni di ultra alto vuoto (UHV). Sostanzialmente

wikibooks.org | 2015/7/9 16:18:45

Micro e nanotecnologia/Microtecnologia/Processi successivi/Impiantazione ionica print that page

Sorgente_ionica

possono oggi essere cresciuti anche tramite tecniche quali l’epitassia da fascio molecolare MBE , Molecular Beam Epitaxy ) e l’epitassia da fase vapore (CVD, Chemical Vapor Deposition) con le quali è possibile ottenere un elevatissimo controllo degli spessori, ma non si riesce ad avere

Micro e nanotecnologia/Microtecnologia/Il vuoto print that page

X, scarica nei gas, microscopia elettronica) Ultra-alto vuoto ( Ultra high vacuum , UHV) - MBE , fisica delle superfici, microscopia a effetto di campo, spettroscopia con fotoelettroni) Vuoto estremo ( Extremely high vacuum , EHV) (acceleratori di antiparticelle, MBE per materiali

wikibooks.org | 2015/7/9 16:18:56

Micro e nanotecnologia/Microtecnologia/Film sottili print that page

Si definiscono Film sottili strati di materiali spessi tra frazioni di nanometri (monostrati) a pochi micron di spessore. Tra le applicazioni principali da un punto di vista tecnologico vi sono i Dispositivi elettronici e la ricopertura di sistemi ottici, anche se lo studio e l'uso dei film

wikibooks.org | 2015/7/9 16:18:37

Micro e nanotecnologia/Microtecnologia/Film sottili/Sputtering print that page

Magnetrongun

1 dc Sputtering 4.2 dc Sputtering Magnetron 4.3 Sputtering a radiofrequenza (rf) 4.4 Ion beam sputtering 4.5 Sputtering reattivo 5 Note 6 Altri Progetti Uso dello sputtering [ modifica ] Lo sputtering è comunemente usato dall'industria dei semiconduttori per depositare