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Risultati 1 - 10 su circa 45 per  Wikipedia / Micro e nanotecnologia/Microtecnologia/Il plasma / Wikipedia    (10867 articoli)

Micro e nanotecnologia/Microtecnologia/Il plasma print that page

Assieme ai tre stati della materia ben noti sulla terra: solido, liquido, aeriforme, esiste un quarto stato: il plasma . Con il termine " plasma " si intende quello stato della materia caratterizzato dalla presenza di atomi o molecole che hanno subito un processo di parziale o totale ionizzazione

wikibooks.org | 2016/11/18 22:00:23

Micro e nanotecnologia/Microtecnologia/Il plasma/Scarica a rf print that page

Circuito_di_scarica_hf

In genere i processi di scarica a plasma sono ottenuti sempre da alimentazione ad alta frequenza, di solito nel range del MHz. Mentre per frequenze inferiori alla frequenza di plasma degli ioni (centinaia di kHz) non vi è differenza tra anodo o catodo poiché essi si alternano con l’alternarsi

Micro e nanotecnologia/Microtecnologia/Il plasma/Proprietà generali print that page

HeTube

Il grado di ionizzazione di un plasma è il rapporto tra gli ioni presenti e le molecole neutre. Alcune proprietà dei plasmi sono comuni a quelle dei gas, infatti spesso abbiamo a che fare con plasmi con grado di ionizzazione di 10 − 4   {\displaystyle 10^{-4}\ } , quindi

Micro e nanotecnologia/Microtecnologia/Etching/Dry Etching print that page

Il dry etching è sinonimo di attacco chimico assistito da plasma , un'espressione che denota diverse tecniche in cui si usano plasmi sottoforma di scariche a basse pressioni. L'alta fedeltà di trasferimento del resist pattern, che queste tecniche permettono, fu messa in luce per la prima

wikibooks.org | 2015/7/9 16:18:29

Micro e nanotecnologia/Microtecnologia/Introduzione alla microtecnologia/La legge di Moore print that page

Dimensioni_minime_Moore

indietro | avanti Riferimenti sulla legge di Moore [ modifica ] en.Wikipedia.org Categoria : Micro e nanotecnologia

Micro e nanotecnologia/Microtecnologia/Il plasma/Scarica nei gas print that page

GlowDischargeVoltAmpere

Le scariche gassose in un tubo rettilineo (in vetro o quarzo) furono le prime ad essere studiate, alla fine del 1800: esse erano note come tubi di Crookes o tubi di Geissler . Lo schema dell'apparato consisteva un tubo rettilineo sotto vuoto (tra 1 mbar e 0.01 mbar possibile anche nell'ottocento

Micro e nanotecnologia/Microtecnologia/Il plasma/Fisica del plasma print that page

Un plasma è in genere neutro in quanto le sue cariche libere positive e negative si compensano a vicenda. Ma vanno introdotte delle grandezze fisiche che determinano alcune proprietà macrocopiche: la lunghezza di Debye e la frequenza di plasma . Tali grandezze fisiche intervengono quando

wikibooks.org | 2015/7/9 16:18:49

Micro e nanotecnologia/Microtecnologia/Film sottili print that page

Si definiscono Film sottili strati di materiali spessi tra frazioni di nanometri (monostrati) a pochi micron di spessore. Tra le applicazioni principali da un punto di vista tecnologico vi sono i Dispositivi elettronici e la ricopertura di sistemi ottici, anche se lo studio e l'uso dei film

wikibooks.org | 2015/7/9 16:18:37

Micro e nanotecnologia/Microtecnologia/Etching/Wet etch print that page

PHOTORESIST1

photoresist il processo viene effettuato di solito ad una temperatura di circa 300 gradi con un plasma di: Tale plasma brucia il photoresist senza impattare la superficie. Supponiamo che il photoresist si trovi ancora sopra la struttuta creata: Tramite il plasma quindi si rimuove il

Micro e nanotecnologia/Microtecnologia/Processi successivi/Ossidazione print that page

Strati_di_ossido_di_silicio_ottenuti_per_ossidazione_termica

L' ossidazione è un processo indispensabile nella realizzazione dei circuiti integrati, infatti gli ossidi svolgono il fondamentale ruolo di isolanti (separano le diverse regioni attive dei dispositivi) o di passivanti (proteggono i dispositivi da fattori esterni come impurità, umidità