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Risultati 31 - 40 su circa 45 per  Wikipedia / Micro e nanotecnologia/Microtecnologia/Processi successivi/Impiantazione ionica / Wikipedia    (10867 articoli)

Micro e nanotecnologia/Microtecnologia/Film sottili/Deposizione di film dielettrici print that page

Forno_a_pareti_riscaldate

I processi di deposizione di film dielettrici più comuni sono i seguenti: deposizione di biossido di silicio deposizione di nitruro di silicio deposizione di polisilicio amorfo o cristallino I processi di deposizione di film sottili vengono effettuati a Diffusione in apparati molto

Micro e nanotecnologia/Microtecnologia/Film sottili/Deposizione con cannone elettronico print that page

larga scala in cui il costo del materiale evaporato rappresenta una voce importante. Categoria : Micro e nanotecnologia

wikibooks.org | 2018/3/17 11:38:17

Micro e nanotecnologia/Microtecnologia/Film sottili/Chemical Vapor Deposition (CVD) print that page

Fase_I_del_processo_CVD

La Chemical Vapor Deposition ( CVD ), in italiano Deposizione chimica da vapore (poco usato) è una tecnica di deposizione in cui il materiale da depositare è contenuto in parte del gas (in genere il gas è detto precursore ) che entra nella camera in cui avviene la reazione chiamata reattore

Micro e nanotecnologia/Microtecnologia/Film sottili print that page

Si definiscono Film sottili strati di materiali spessi tra frazioni di nanometri (monostrati) a pochi micron di spessore. Tra le applicazioni principali da un punto di vista tecnologico vi sono i Dispositivi elettronici e la ricopertura di sistemi ottici, anche se lo studio e l'uso dei film

wikibooks.org | 2015/7/9 16:18:37

Micro e nanotecnologia/Microtecnologia/Etching/Wet etch print that page

PHOTORESIST1

Il wet etch viene usato quando si vogliono rimuovere strati di materiale in modo isotropo ( uguale in ogni direzione ). In presenza di una maschera di resist, il materiale scoperto verrà eliminato, ma contemporaneamente,anche parte del materiale ricoperto dalla maschera verrà corroso lateralmente

Micro e nanotecnologia/Microtecnologia/Etching/Reactive Ion Etching (RIE) print that page

assorbimento si può aumentare il controllo dell'etch orizzontale nel Ion Enhanced Etch Categorie : Micro e nanotecnologia Moduli 50%

wikibooks.org | 2018/9/22 18:06:08

Micro e nanotecnologia/Microtecnologia/Etching/Ion milling print that page

solo un abbozzo . Contribuisci a migliorarlo secondo le convenzioni di Wikibooks Categorie : Micro e nanotecnologia Moduli 0%

wikibooks.org | 2015/7/9 16:18:31

Micro e nanotecnologia/Microtecnologia/Etching/Dry Etching print that page

Il dry etching è sinonimo di attacco chimico assistito da plasma, un'espressione che denota diverse tecniche in cui si usano plasmi sottoforma di scariche a basse pressioni. L'alta fedeltà di trasferimento del resist pattern, che queste tecniche permettono, fu messa in luce per la prima

wikibooks.org | 2015/7/9 16:18:29

Micro e nanotecnologia/Microtecnologia/Etching print that page

soluzione Dry Etch (attacco a secco) : la rimozione viene effettuata tramite plasma Categorie : Micro e nanotecnologia Moduli 75%

wikibooks.org | 2015/7/9 16:18:28

Micro e nanotecnologia/Microtecnologia/Il plasma/Scarica a rf print that page

Circuito_di_scarica_hf

In genere i processi di scarica a plasma sono ottenuti sempre da alimentazione ad alta frequenza, di solito nel range del MHz. Mentre per frequenze inferiori alla frequenza di plasma degli ioni (centinaia di kHz) non vi è differenza tra anodo o catodo poiché essi si alternano con l’alternarsi